La SLA (stereolitografia) è un processo di produzione additiva che funziona concentrando un laser UV su una vasca di resina fotopolimerica. Con l'aiuto del software di produzione assistita da computer o di progettazione assistita da computer (CAM/CAD), il laser UV viene utilizzato per disegnare un disegno o una forma preprogrammata sulla superficie della vasca di fotopolimero. I fotopolimeri sono sensibili alla luce ultravioletta, quindi la resina viene solidificata fotochimicamente e forma un singolo strato dell'oggetto 3D desiderato. Questo processo viene ripetuto per ogni livello del disegno fino al completamento dell'oggetto 3D.
CARMANHAAS può offrire al cliente il sistema ottico che comprende principalmente scanner galvanometrico veloce e obiettivo di scansione F-THETA, espansore del fascio, specchio, ecc.
Testina per scanner Galvo da 355 nm
| Modello | PSH14-H | PSH20-H | PSH30-H |
| Testina di scansione sigillata/raffreddata ad acqua | SÌ | SÌ | SÌ |
| Apertura (mm) | 14 | 20 | 30 |
| Angolo di scansione effettivo | ±10° | ±10° | ±10° |
| Errore di tracciamento | 0,19 ms | 0,28 ms | 0,45 ms |
| Tempo di risposta al gradino (1% del fondo scala) | ≤ 0,4 ms | ≤ 0,6 ms | ≤ 0,9 ms |
| Velocità tipica | |||
| Posizionamento/salto | < 15 m/sec | < 12 m/sec | < 9 m/sec |
| Scansione lineare/scansione raster | < 10 m/sec | < 7 m/sec | < 4 m/sec |
| Scansione vettoriale tipica | < 4 m/sec | < 3 m/sec | < 2 m/sec |
| Buona qualità di scrittura | 700 cp | 450 cp | 260 cp |
| Alta qualità di scrittura | 550 cp | 320 cp | 180 cp |
| Precisione | |||
| Linearità | 99,9% | 99,9% | 99,9% |
| Risoluzione | ≤ 1 urad | ≤ 1 urad | ≤ 1 urad |
| Ripetibilità | ≤ 2 urad | ≤ 2 urad | ≤ 2 urad |
| Deriva della temperatura | |||
| Deriva compensata | ≤ 3 urad/℃ | ≤ 3 urad/℃ | ≤ 3 urad/℃ |
| Deriva di offset a lungo termine di 8 ore (dopo 15 minuti di riscaldamento) | ≤ 30 urad | ≤ 30 urad | ≤ 30 urad |
| Intervallo di temperatura operativa | 25℃±10℃ | 25℃±10℃ | 25℃±10℃ |
| Interfaccia del segnale | Analogico: ±10 V Digitale: protocollo XY2-100 | Analogico: ±10 V Digitale: protocollo XY2-100 | Analogico: ±10 V Digitale: protocollo XY2-100 |
| Requisiti di alimentazione in ingresso (CC) | ±15 V a 4 A RMS massimo | ±15 V a 4 A RMS massimo | ±15 V a 4 A RMS massimo |
Obiettivi F-Theta da 355 nm
| Descrizione della parte | Lunghezza focale (mm) | Campo di scansione (mm) | Ingresso massimo Pupilla (mm) | Distanza di lavoro (mm) | Montaggio Filo |
| SL-355-360-580 | 580 | 360x360 | 16 | 660 | M85x1 |
| SL-355-520-750 | 750 | 520x520 | 10 | 824.4 | M85x1 |
| SL-355-610-840-(15CA) | 840 | 610x610 | 15 | 910 | M85x1 |
| SL-355-800-1090-(18CA) | 1090 | 800x800 | 18 | 1193 | M85x1 |
Espansore del fascio da 355 nm
| Descrizione della parte | Espansione Rapporto | Immettere CA (mm) | Uscita CA (mm) | Alloggiamento Diametro (millimetro) | Alloggiamento Lunghezza (mm) | Montaggio Filo |
| BE3-355-D30:84,5-3x-A(M30*1-M43*0,5) | 3X | 10 | 33 | 46 | 84,5 | M30*1-M43*0,5 |
| BE3-355-D33:84,5-5x-A(M30*1-M43*0,5) | 5X | 10 | 33 | 46 | 84,5 | M30*1-M43*0,5 |
| BE3-355-D33:80,3-7x-A(M30*1-M43*0,5) | 7X | 10 | 33 | 46 | 80.3 | M30*1-M43*0,5 |
| BE3-355-D30:90-8x-A(M30*1-M43*0,5) | 8X | 10 | 33 | 46 | 90,0 | M30*1-M43*0,5 |
| BE3-355-D30:72-10x-A(M30*1-M43*0,5) | 10X | 10 | 33 | 46 | 72.0 | M30*1-M43*0,5 |
Specchio da 355 nm
| Descrizione della parte | Diametro (millimetro) | Spessore (mm) | Rivestimento |
| 355 Specchio | 30 | 3 | HR@355nm, AOI 45° |
| 355 Specchio | 20 | 5 | HR@355nm, AOI 45° |
| 355 Specchio | 30 | 5 | HR@355nm, AOI 45° |
